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第1084章 成了我无冬大师成了(第1页)

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成了!我无冬大师成了(成了!我无冬大师成了(第22页)从能力、影响力、领域贡献来看,杨立坤才是那个最值得红星砸重金挖的人。成文飞不是不好,但论优先级,放在名单的中间位置更合适,而不是被单独拎出来的那个。除非陈星知道一些自己不知道的事情。甘良才没有多问。跟着陈星干久了他也摸出了一条规律,有些决定不需要理解原因,只需要执行到位。陈总说这个人必须拿下,那就全力以赴去拿。还是那句话。凡是陈总做出的决策,我们都坚决维护。凡是陈总的指示,我们都始终不渝的遵循。接下来两个人聊了一些关于春招和秋招的安排。红星ai团队,gpu团队都是刚起步,基础研发人员缺口很大,何凯明一个人撑不起整个视觉方向。需要从各大高校批量招收应届博士和硕士,搭建底层的研发梯队。与此同时,红星半导体化学实验中心。夏春秋站在自己的工位前,两只手撑在操作台边沿,盯着屏幕上的三维模型。懂行的朋友看到图片应该就知道到能在硅片上这个孔有多重要了,这是一个硅片的横截面,放大到微米级别,中间是一个垂直贯穿的圆柱形通孔。孔壁极其光滑,侧壁角度看起来接近90度,没有任何肉眼可辨的锥度偏差。底部干净利落,没有残留沉积物。“六氟化硫进入腔室后,可以电离出一个氟自由基,这些氟自由基就会和裸露出来的硅反应,产生气态四氟化硅。”“也就是说,硅会被腐蚀掉,然后继续通入八氟环丁烷,八氟环丁烷被电离后又会形成含氟碳自由基,那么这个腔室就会形成一个保护层,通入六氟化硫后,硅就不会被腐蚀了。”实话实说,为了写这本书,我真的认真学习了很多东西,这个公式以及无冬大师的这个工艺,对后续发展非常重要“在这个时候我再加入一个电场,会让部分离子高速垂直俯冲,轰击保护膜的底部,这样只有底部的保护膜被打穿,侧边的还会被保留。”“然后继续重复下去,从理论上来说,用这种化学方式能在硅片上蚀刻出一个贯穿硅片的空洞。”夏春秋一边自言自语,一边在电脑上操作,屏幕上一组化学工艺参数的理论模拟曲线开始变化,沉积速率、刻蚀选择比、侧壁粗糙度、深宽比,四条曲线在某一个参数区间内同时收敛到了目标范围。全部收敛。没有一条跑偏。盯着那个收敛点看了足足两分钟,然后站起来,在实验室里走了两个来回,又坐下来重新看了一遍数据。“不对,再来一次。”重新跑了一遍模拟后,还是收敛。再调,换一组边界条件。还是收敛。夏春秋的手抖厉害了,把椅子往后一推“成了。”“成了!”沉积配比搞定了。刻蚀气体的选择性搞定了。循环参数的窗口搞定了。钝化层和刻蚀步骤之间的切换节奏也他妈的也搞定了。全搞定了!

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